来源:半导体工艺知识站
原创:SEMIKnowledgeHub
链接:功率器件的钝化层|一层介质,四个身份
关键信息摘录如下:
1、钝化影响功率器件的性能和可靠性;
2、钝化覆盖在芯片上层,起到阻挡水汽与沾污等作用;还会影响器件的电场分布;
3、钝化通常为多叠层结构,包括SiO2(热氧化或沉积)、SiN(PECVD)和聚酰亚胺等;
4、钝化层的作用(身份):界面态钝化、电场调制、阻挡离子/水汽、机械保护;
4.1、界面态钝化:压低半导体的表面态、界面态和陷阱;
在Si/SiO₂界面,硅原子周期性终端,留下未配对电子的悬挂键(≡Si·),即Pb中心;
高浓度的 Pb 中心会导致界面态密度(Dit)升高,界面态既是复合中心导致漏电增大,又是俘获中心引起阈值漂移,迁移率降低;
450 °C,N2/H2或 Ar/H2 退火,让氢与悬挂键结合,形成稳定的 ≡Si-H 结构,从而降低界面态;Si(100)/SiO2界面的Dit约E10cm-2·eV-1量级;
4.2、电场调制:钝化层会直接改变半导体表面的电场分布;
钝化层参数:厚度、介电常数和固定电荷Qf;
界面没有电荷时,电位移法向分量连续,介质内电场乘以其介电常数等于硅内电场乘以硅介电常数(即:ε1*E1=ε21*E2);
硅相对介电常数11.7,SiO2约3.9,即SiO2介质内电场是硅的约3倍;
固定电荷Qf直接扰动终端区的电场分布;
4.3、阻挡层:阻挡Na+/K+等碱金属离子和水汽;
Na+/K+等碱金属离子在SiO2中可漂移(室温、中等电场下),迁移至界面处引起漏电增大等;
水汽沿着缺陷、界面与边缘路径进入终端区,在高温高湿高电场下提高表面电导,诱发离子迁移和电化学腐蚀;
工程经验:水汽更多沿针孔、微裂纹、台阶覆盖薄弱处、金属边缘、焊盘开口,划片边缘渗入;薄弱点集中在开口、边缘和台阶;影响HTRB、H3TRB、THB考核;
致密的SiN(PECVD)可阻挡水汽,而PSG/BPSG中的磷可俘获Na+/K+等碱金属;
4.4、机械保护:承受机械与热的应力,包括封装应力、温度循环、划片边缘损伤、厚金属应力与有机材料吸潮膨胀;
致密的SiN通常伴随高的应力,易开裂;
聚酰亚胺(PI)较大的弹塑性变形,适用于做顶部钝化层;

钝化作用:界面态钝化、电场调制、阻挡离子/水汽、机械保护;设计考量:低的界面态Dit、低可动离子、稳定的栅介质;5.2、终端区钝化主要作用:电场调制、阻挡离子/水汽、机械保护;首要任务:重塑电场,承受阻断电压、抑制表面沟道、阻挡外来电荷和水汽;失效表现:击穿电压退化、漏电增大,H3TRB/HV-THB失效;既要横向看,也要纵向用。横向看,一个身份连着一项判据、一类考核和一组失效现象;纵向用,一个器件常温下全部通过、却在 H3TRB 之后漏电飙升,问题大概率落在阻挡身份与终端区的交叉处。推荐理由:该篇给钝化做了一个较为全面的总结,很见功底;笔者揣测应该还有很多料(比较口语化,能感觉到是很多case的凝练结果;文末提到知识星球,难道这个球真有料?!),推荐大家伙一起深究,深追!!!全文完。